JIS K 0150:2009
表面化學分析.用輝光放電光發(fā)射光譜測定法分析鋅和/或鋁基金屬涂層

Surface chemical analysis -- Analysis of zinc- and/or aluminium-based metallic coatings by glow-discharge optical-emission spectrometry

標準號

JIS K 0150:2009

發(fā)布

2009年

發(fā)布單位

日本工業(yè)標準調(diào)查會

當前最新

JIS K 0150:2009

 

 

引用標準

ISO 17925:2004 JIS G 0417 JIS K 0144 JIS Z 8402-1 JIS Z 8402-2 JIS Z 8402-6

適用范圍

本標準規(guī)定了測定鋅基和/或鋁基材料金屬表面涂層的厚度、單位面積質(zhì)量和化學成分的輝光放電發(fā)射光譜法?？紤]的合金元素有鎳、鐵、硅、鉛和銻。本方法適用于鋅含量在0.01質(zhì)量％～100質(zhì)量％之間；鋁含量在0.01質(zhì)量%至100質(zhì)量%之間；鎳含量在0.01質(zhì)量%至20質(zhì)量%之間；鐵含量在0.01質(zhì)量%至20質(zhì)量%之間；硅含量在0.01質(zhì)量%至10質(zhì)量%之間；鉛含量在0.005質(zhì)量%至2質(zhì)量%之間；銻含量在0.005質(zhì)量％至2質(zhì)量％之間。注：與本標準對應的國際標準如下。 ISO 16962:2005 表面化學分析 - 通過輝光放電光譜法 (IDT) 分析鋅基和/或鋁基金屬涂層 另外，表示相關國際標準和根據(jù) ISO/IEC 指南 21，JIS 是 IDT/相同）、MOD（修改）和 NEQ（不等效）。

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