DIN 50455-2:1999
半導(dǎo)體技術(shù)用材料的試驗.表征光敏抗蝕劑的方法.第2部分:陽極光敏抗蝕劑的光敏度的測定
Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- DIN 50455-2:1999
- 發(fā)布
- 1999年
- 總頁數(shù)
- 5頁
- 發(fā)布單位
- 德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會
- 替代標(biāo)準(zhǔn)
- DIN 50455-2:1999-11
- 當(dāng)前最新
- DIN 50455-2:1999-11
- 適用范圍
- 根據(jù)該文件的方法涵蓋了通過將硅晶片上的單層正性光刻膠與參考光刻膠的確定的光敏性進(jìn)行比較來表征光刻膠。