氣相沉積法

本專題涉及氣相沉積法的標(biāo)準(zhǔn)有5條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，氣相沉積法涉及到半導(dǎo)體材料、玻璃、珠寶、電子電信設(shè)備用機(jī)電元件。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，氣相沉積法涉及到、石英玻璃、其他非金屬礦。

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于氣相沉積法的標(biāo)準(zhǔn)

• T/CNIA 0011-2019 氣相沉積法碳化硅涂層
• T/ZJATA 0017-2023 制備碳化硅半導(dǎo)體材料用化學(xué)氣相沉積法(CVD)外延設(shè)備

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-建材，關(guān)于氣相沉積法的標(biāo)準(zhǔn)

• JC/T 2392.3-2023 石英玻璃碇 第 3 部分： 等離子化學(xué)氣相沉積法
• JC/T 2392.2-2018 石英玻璃碇 第2部分：氫氧焰化學(xué)氣相沉積法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-地質(zhì)，關(guān)于氣相沉積法的標(biāo)準(zhǔn)

• DZ/T 0294-2016 化學(xué)氣相沉積法合成無色單晶鉆石 篩查和鑒定

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可能用到的儀器設(shè)備