電子顯微鏡的種類
電子顯微鏡按結(jié)構(gòu)和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發(fā)射式電子顯微鏡等。
透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細(xì)微物質(zhì)結(jié)構(gòu)；
掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌，也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結(jié)合，構(gòu)成電子微探針，用于物質(zhì)成分分析；
發(fā)射式電子顯微鏡用于自發(fā)射電子表面的研究。
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透射電子顯微鏡（transmission electron microscope，TEM）的組件包括：
1. 電子槍：發(fā)射電子，由陰極、柵極、陽極組成。
2. 聚光透鏡：即電子透鏡，將電子束聚集，可用于控制照明強(qiáng)度和孔徑角。
3. 樣品室：放置待觀察的樣品，并裝有旋轉(zhuǎn)臺，用以改變試樣的角度，還有裝配加熱、冷卻等設(shè)備。
4. 物鏡：為放大率很高的短距透鏡，作用是放大電子像。物鏡是決定透射電子顯微鏡分辨能力和成像質(zhì)量的關(guān)鍵。
5. 中間鏡：為可變倍的弱透鏡，作用是對電子像進(jìn)行二次放大。通過調(diào)節(jié)中間鏡的電流，可選擇物體的像或電子衍射圖來進(jìn)行放大。
6. 透射鏡：為高倍的強(qiáng)透鏡，用將二次放大后的中間像進(jìn)一步放大后在熒光屏上成像。
7. 二級真空泵：對樣品室抽真空。
8．照相裝置：用以記錄影像。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質(zhì)量，必須制備更薄的超薄切片，通常為 50～100 nm。
所以用透射電子顯微鏡觀察時(shí)的樣品需要處理得很薄。通常用薄切片法或冷凍蝕刻法制備：
?。?）薄切片法
通常以鋨酸和戊二醛固定樣品，以環(huán)氧樹脂包埋，以熱膨脹或螺旋推進(jìn)的方式推進(jìn)樣品切片，切片厚度 20～50 nm，采用重金屬鹽染色，以增大反差。
?。?）冷凍蝕刻法 亦稱冰凍斷裂法
將標(biāo)本置于-100°C 的干冰或-196°C 的液氮中冰凍后，以冷刀急速斷開標(biāo)本。斷裂的標(biāo)本升溫后，冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結(jié)構(gòu)，稱為蝕刻。蝕刻完成后，向斷面以45o 角噴涂一層蒸氣鉑，再以90o 角噴涂一層碳，加強(qiáng)反差和強(qiáng)度。然后用次氯酸鈉溶液消化樣品，剝下碳和鉑的膜，稱為復(fù)膜，能顯示標(biāo)本蝕刻面的形態(tài)。在電鏡下觀察得到的影像即代表標(biāo)本中細(xì)胞斷裂面處的結(jié)構(gòu)。
（二）掃描式電子顯微鏡
掃描電子顯微鏡（scanning electron microscope，SEM）于20 世紀(jì)60 年代問世，目前分辨力可達(dá)6～10 nm。
其工作原理是由電子槍發(fā)射的精細(xì)聚焦電子束經(jīng)兩級聚光鏡、偏轉(zhuǎn)線圈和物鏡射到樣品上，掃描樣品表面并激發(fā)出次級電子，次級電子的產(chǎn)生量與電子束入射角有關(guān)，即與樣品的表面結(jié)構(gòu)有關(guān)。次級電子經(jīng)探測體收集后，由閃爍器轉(zhuǎn)換為光信號，再經(jīng)光電倍增管和放大器轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘杹砜刂茻晒馄辽想娮邮膹?qiáng)度，顯示出與電子束同步的掃描圖像。圖像為立體形象，反映了標(biāo)本的表面結(jié)構(gòu)。
掃描電鏡的標(biāo)本在檢驗(yàn)前，需進(jìn)行固定、脫水處理，再噴涂上一層重金屬微粒，重金屬在電子束的轟擊下發(fā)出次級電子信號。
